プレスリリース・研究成果

超伝導体へのスピン注入に成功

2010/06/06

  

金属物性論研究部門(兼高梨グループ)は、日本原子力研究開発機構先端基礎研究センター、米国IBMルマデン研究所との共同で、 超伝導体へスピンを注入することに成功しました。 本研究では、超伝導体(Al)、強磁性体(CoFe)、トンネル障壁(MgO)からなる二重トンネル接合素子を開発し、 スピン注入により超伝導が制御できること、超伝導状態でのスピンの寿命は常伝導状態に比べて非常に長くなることが明らかになりました。 この研究成果は量子コンピュータの演算素子である量子ビットの開発につながると期待されます。 本研究成果は英国科学誌「Nature Materials」のオンライン版(2010年6月6日付)に掲載され、 2010年6月7日付電気新聞、6月8日付日経産業新聞、日刊工業新聞、 6月18日付け科学新聞で紹介されました。

プレスリリース(PDF

兼高梨グループ(金属物性論研究部門)