プレスリリース・研究成果

スキルミオン生成に表れるトポロジーの融合 -低消費電力エレクトロニクスに新原理-

 理化学研究所(理研)創発物性科学研究センター 強相関物性研究グループの安田憲司研修生(東京大学大学院工学系研究科 大学院生)、十倉好紀グループディレクター(同教授)、強相関界面研究グループの川﨑雅司グループディレクター(同教授)、強相関理論研究グループの若月良平研修生(同大学院生)、永長直人グループディレクター(同教授)、東北大学金属材料研究所 塚﨑敦教授らの共同研究グループは、トポロジカル絶縁体である(Bi1-ySby)2Te3(Bi:ビスマス、Sb:アンチモン、Te:テルル)薄膜上に、磁性元素Cr(クロム)を添加したトポロジカル絶縁体Crx(Bi1-ySby)2-xTe3を積層させた構造の作製により微小な渦状の磁気構造である磁気スキルミオンを生成することに成功し、スキルミオン生成の新たな設計指針を見出しました。

 

 本成果は、英国の科学雑誌『Nature Physics』に掲載されるのに先立ち、オンライン版(日本時間2月23日)に掲載されました。

 

詳細1: プレスリリース本文 [PDF:503KB]

詳細2: Nature Physics Webサイト [DOI:10.1038/nphys3671]

トポロジカル絶縁体積層構造によるスキルミオン形成の概念図

図:トポロジカル絶縁体積層構造によるスキルミオン形成の概念図